2019年11月21日，十九屆“華創會”國際知識產權保護論壇在武漢東湖國際會議中心成功舉辦。
來自國家知識產權局、世界知識產權組織、業內專家學者、國際國內知名企業代表，來自“一帶一路”國家留學生代表，以及來自中國、美國、日本、巴基斯坦、印度尼西亞等15個國家和地區的300余名國內外嘉賓出席；武漢世隆科技作為湖北省高價值知識產權培育工程入選企業受邀參會。
論壇上，世界知識產權組織中國辦事處顧問鄧玉華、日本貿易振興機構北京代表處知識產權部部長山本英一、美國高通公司副總裁兼法律顧問約翰A·斯科特等分別圍繞不同主題發表了演講。演講嘉賓和參會人員就新形勢下加強知識產權保護，構建一流營商環境的新路徑展開了充分熱烈的交流。
本次論壇以“加強知識產權保護，構建一流營商環境”為主題，旨在貫徹落實習近平總書記關于加強知識產權保護的重要指示精神，全面加強湖北省知識產權保護力度，深入開展知識產權保護國際交流合作，構建一流營商環境，助推湖北高質量發展；論壇由湖北省人民政府、國務院僑務辦公室、武漢市人民政府主辦，湖北省知識產權局承辦。
